高纯铝靶材5N 科研用
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高纯铝靶材5N级科研用，山东产，φ25.4×3mm规格，铝含量≥99.999%。适用于科研、半导体及镀膜行业，具有优异的导电性与耐腐蚀性。表面平整度高，无杂质，确保薄膜沉积均匀性。采用真空熔炼工艺，保证材料纯度一致。建议配套使用高纯氩气溅射，提高靶材利用率。价格根据纯度及加工精度浮动，建议直接联系供应商获取最新报价与库存信息。
This introduction is automatically generated by AI based on product title and specifications. Please refer to the actual product for details.
Specifications
| 产地 | 山东 |
|---|---|
| 品名 | 其他 |
| 牌号 | 其他 |
| 规格 | φ25.4×3mm |
| 铝含量≥ | 99.999 |
Product Details
高纯铝靶材5N 科研用
品名：其他；牌号：其他；产地：山东；铝含量≥：99.999；规格：φ25.4×3mm；起订量：1件；发货地：陵城区
2-1 适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。
2-2 应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。
3-1 材质：铝（Al Target）。
3-2 纯度：99.99%，99.999%，99.9999%。
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高纯铝靶材5N 科研用
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