高纯铜靶材5N5科研用

高纯铜靶材5N5科研用由领科元素（山东）技术有限公司供应，发货地为山东德州市陵城区，参考价格¥220 起，支持在线询价与采购对接。

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AI AI 产品介绍

高纯铜靶材5N5为科研专用材料，铜含量≥99.995%，纯度高，适用于半导体、薄膜镀膜等高科技领域。产品表面平整无缺陷，晶粒结构均匀，确保溅射过程稳定性。广泛应用于物理气相沉积(PVD)、磁控溅射等工艺，是制备高质量薄膜的关键材料。建议根据具体应用需求选择合适厚度和尺寸，确保工艺参数匹配。

本介绍由 AI 基于产品标题与规格自动生成，请以实际产品为准。

规格参数

产品详情

高纯铜靶材5N5科研用

品名：其他；牌号：其他；产地：其他；铜含量≥：99.995；起订量：1件；发货地：陵城区

2-1 适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。

2-2 应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

3-1 材质：铜（Cu Target）。

3-2 纯度：99.99%，99.999%。

高纯铜靶材5N5科研用采购问答

高纯铜靶材5N5科研用由领科元素（山东）技术有限公司（发货地：山东德州市陵城区）在本平台供应。

该产品发货地为山东德州市陵城区。具体运费与交期可在提交询价后与供应商确认。

主要规格参数包括产地：其他；品名：其他；牌号：其他；铜含量≥：99.995。