MgO靶材, 氧化镁靶材, 氧化镁溅射靶, 高纯氧化镁靶材, MgO溅射靶材, 高纯MgO靶, 旋转MgO靶, 半导体镀

UVTM · MgO靶材, 氧化镁靶材, 氧化镁溅射靶, 高纯氧化镁靶材, MgO溅射靶材, 高纯MgO靶, 旋转MgO靶, 半导体镀

MerkUVTM Eenheid套AI 译文 · Nederlands
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广东 广州市
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AI AI productintroductie
UVTM高纯MgO靶材,镁含量≥99.99%,杂质含量100ppm,专为半导体镀膜设计。密度、规格尺寸及重量均可根据客户需求定制,牌号Mg99.98。该靶材具有优异的溅射性能,适用于精密半导体制造,确保薄膜均匀性和纯度。UVTM品牌保障稳定品质,满足高端电子产业对材料性能的严苛要求。
Deze introductie is automatisch gegenereerd door AI op basis van de producttitel en specificaties. Raadpleeg het daadwerkelijke product voor de juiste informatie.
Specificaties
产地 其他
品名 其他
品牌 UVTM
密度 根据客户要求定制
牌号 Mg99.98
用途 半导体镀膜
重量 定制
杂质含量 100ppm
规格尺寸 根据客户要求定制
镁含量≥ 99.99%
Productdetails

MgO靶材, 氧化镁靶材, 氧化镁溅射靶, 高纯氧化镁靶材, MgO溅射靶材, 高纯MgO靶, 旋转MgO靶, 半导体镀

品名:其他;牌号:Mg99.98;产地:其他;镁含量≥:99.99%;杂质含量:100ppm;重量:定制;品牌:UVTM;密度:根据客户要求定制;规格尺寸:根据客户要求定制;用途:半导体镀膜;起订量:1套;发货期限:15天;发货地:广州市

氧化镁靶材又称MgO靶材、氧化镁溅射靶,是一种高纯陶瓷溅射靶材,纯度稳定99.99%及以上(4N级),金属杂质单项控制在每百万分之十以内,材料纯净稳定。靶材密度达3.15克每立方厘米及以上,所成氧化镁薄膜绝缘性、介电与热稳定性优异。旋转靶经靶管焊接绑定,单件与整体结合率分别达96%与97%以上,溅射稳定、利用率高,最长拼接4000毫米。作为溅射靶材,主要用于半导体器件的功能薄膜与介电绝缘层,作集成电路、功率器件及氮化镓、碳化硅化合物半导体缓冲层,也用于精密光学与铁电薄膜镀膜。

我司是国家高新技术企业、专精特新小巨人企业,拥有多项自主知识产权,获SONY GP绿色合作伙伴资质,是可信赖的靶材供应商。单片真空包装、附检测单与质保卡,面向全国及广州、深圳、东莞等珠三角重点城市供货,可物流或自提,支持非标定制,靶材价格按纯度规格面议。

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