高纯锰 科研用 3N纯度 Mn靶材
价格
¥578.99 起
AI AI 产品介绍
高纯锰靶材3N纯度，锰含量≥99.9%，规格φ25.4×3mm，适用于科研领域薄膜制备。高纯度确保优异的溅射性能和薄膜质量，适用于半导体、光学镀膜等精密工艺。建议根据具体应用需求选择合适的纯度和规格，使用过程中需注意防潮保存，避免氧化影响性能。采购时可咨询供应商关于杂质元素含量和检测报告的详细信息。
本介绍由 AI 基于产品标题与规格自动生成，请以实际产品为准。
规格参数
| 产地 | 其他 |
|---|---|
| 品名 | 金属锰 |
| 牌号 | 其他 |
| 规格 | φ25.4×3mm |
| 锰含量≥ | 99.9% |
产品详情
高纯锰 科研用 3N纯度 Mn靶材
品名：金属锰；牌号：其他；产地：其他；锰含量≥：99.9%；规格：φ25.4×3mm；起订量：11件；发货期限：14天；发货地：陵城区
适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。
应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。
高纯锰 科研用 3N纯度 Mn靶材产品信息展示页，该页所展示的
高纯锰 科研用 3N纯度 Mn靶材产品信息及价格等相关信息均有企业自行发布与提供，
向商家询价
高纯锰 科研用 3N纯度 Mn靶材
提交即表示同意平台《询价对接规则》；您的联系信息将仅用于本次询价对接。